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次氯酸鈉發生器新/5萬噸水廠消毒設備

簡要描述:

次氯酸鈉發生器新/5萬噸水廠消毒設備
次氯酸鈉投加系統以及控制系統組成。制備完成的0.8%-1%濃度的次氫酸鈉溶液和少量氫氣進入脫氫系統,采用離心風機鼓入新風完成低濃度排氫,次氯酸鈉溶液進入存儲桶等待投加

 

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次氯酸鈉發生器新/5萬噸水廠消毒設備

 

近年來,社會經濟的發展加快了城市建設的步伐,同時建筑的也日益增加,生活飲用水在很多情況下必須使用二次供水設施加壓供應,其水質的衛生問題關系著廣大市民的健康。我們使用次氯酸鈉發生器對二次供水消毒。

次氯酸鈉現場制備系統由軟水制備、溶鹽池、次氯酸鈉發生器及配套電源、次氯酸鈉儲存及安全排氫聯動系統、次氯酸鈉投加系統以及控制系統組成。制備完成的0.8%-1%濃度的次氫酸鈉溶液和少量氫氣進入脫氫系統,采用離心風機鼓入新風完成低濃度排氫,次氯酸鈉溶液進入存儲桶等待投加。現場制備工藝制備0.8%的次氯酸鈉溶液,不屬于危險品,幾乎無衰減,可保存,可大規模生產,其制備工藝操作方便,現場制備次氯酸鈉深度穩定,投加精準,低深度使用更安全,無需擔心產品純度及質量穩定性,無需頻繁運輸。

次氯酸鈉發生器新/5萬噸水廠消毒設備

HCCL系列次氯酸鈉發生器與其他同類型設備相比無論是在系統上設備結構上,工藝流程上和電極結構上等幾個方面進行了開創性的工作,采用了新型工藝和結構,形成了一個嶄新的設備體系。技術指標有了大幅度的提高。由于采用新型的電極結構,電解槽槽電壓較其他次氯酸鈉發生器低0.3~0.5V,使電耗有了較大幅度的降低。根據用戶需要,采用兩套配鹽方案,一種為閉環負反饋控制,通過模擬量控制與變頻調速相結合,配置進口高精度儀表,使稀鹽水濃度誤差≤0.1%。降低了鹽耗,提高了電解效率;另一種為泵后加水射器配鹽系統,水射器配鹽具有結構簡單(無電氣及機械傳動部件),安裝方便等特點。

 

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